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EDAX Orbis II 微束X射线荧光系统

EDAX® Orbis II 微束 X 射线荧光(微束 XRF)系统带来非破坏性、高性能元素分析,同时兼具极高的灵活性和易用性。Orbis II 专为涵盖各种微束 XRF 分析应用的全方位卓越表现而设计,使用户能够快速准确地全面分析从最小颗粒到大尺寸、复杂的样品。

体验 EDAX Orbis II 带来的全新境界微束 XRF 分析——在这里,精度与性能完美结合!

EDAX Orbis II 微束X射线荧光系统

 

性能优点

  • 定制的 X 射线窗口技术能检测轻元素
  • 专有的同轴光和 X 射线光路精确定位特定区域 - 消除来自邻近区域的 X 射线干扰
  • 以 2.5 倍的更快速度采集光谱,以超过 3 倍的更快速度获取光谱面分布,来实现更大的分析通量
  • 通过可编程的自动运行程序简化工作流程,以提高生产力并确保一致的高质量结果

Orbis II 的核心是其专利的轨道塔轮,并配备了增强的精密定位器,可以无缝对准 X 射线光轴与样品的高倍放大视图。配备可调的光斑尺寸,从 2 毫米到 30 微米,这一先进系统确保 X 射线始终聚焦在您需要的精确位置——消除了显微镜失调或样品高度变化导致的偏差。基于经过验证的 Orbis 平台,Orbis II 提供相同值得信赖的性能和可靠性,现在具有更高的精确性和控制能力——让您可以绝对自信地进行分析。

Orbis II 在微束 X 射线荧光分析中重新定义了速度和效率。配备高强度 X 射线源、改进的电子元件和更大面积的 X 射线探测器,它从样品中每秒获得超 100 万计数,并可以以每秒处理超过 45 万计数的速度进行采谱,速度是上一代的2.5倍以上。

增强的面分布和优化的移动控制将样品台移动时间缩短了 3 到 4 倍,从而实现更快、更高效的扫描。这些进步意味着您可以在更短的时间内获得更高质量的数据,从而每天分析更多的样本,并保持实验室在最佳生产力下运行。

Orbis II 利用一种专利的轨道塔轮,能够无缝地将 X 射线光轴与样品的高倍视图对准。
图 1. Orbis II 利用一种专利的轨道塔轮,能够无缝地将 X 射线光轴与样品的高倍视图对准。

Orbis II有两个型号:Plus和Super。Orbis II Plus 配备一个30 mm2的 X射线探测器,具有专利的氮化硅窗口。其最大处理能力可达每秒25万计数(cps)。Orbis II Super 标准配备一个70 mm2 的 X 射线探测器和铍窗口,最大处理能力为 45 万 cps。Orbis II Super 还提供一个包括氮化硅窗口的选项,以满足您的分析需求。

Orbis Vision II 是一款为速度、简易性和精准度而设计的下一代软件平台,完善了整个系统的表现性能。

 

凭借简化的界面和现代直观的设计,它使用户能够执行成像、元素分析、面分布、定量和报告生成等功能——所有这些,只需更少的点击次数,具有更高的效率。

Orbis Vision II 基于严格的用户测试和真实世界的反馈,提供更智能、响应更快的体验,帮助您比以往更快地实现从设置到结果的过程。

15 mm x 15 mm的地砖使用 50 kV 的管电压和 1,000 µA 的管电流进行扫描。30 µm 的多毛细管光学器件使得在 15 µm 的步进大小和 200 毫秒的像素时间下采集高分辨率面分布成为可能。
图 2. 15 mm x 15 mm的地砖使用 50 kV 的管电压和 1,000 µA 的管电流进行扫描。30 µm 的多毛细管光学器件使得在 15 µm 的步进大小和 200 毫秒的像素时间下采集高分辨率面分布成为可能。

显示EDAX Orbis II的两个不同窗口选项的透过曲线的图表。铍窗口(红色)在更高的x射线能量下表现出更高的透过率,而氮化硅窗口(绿色)在较低的x射线能量下表现更好。
图 3. 显示EDAX Orbis II的两个不同窗口选项的透过曲线的图表。铍窗口(红色)在更高的x射线能量下表现出更高的透过率,而氮化硅窗口(绿色)在较低的x射线能量下表现更好。

资源

简介手册
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